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曙海講師體系和課程體系歷經多年升級，形成了以項目實戰經驗豐富的工程師為基礎，產學研相結合的體系，曙海的學員大部分來自外資企業、上市公司的，研究所的工程師或高校老師，很多學員都參加工作很多年了，這對曙海的講師形成很高的要求，曙海的講師隊伍名校博士、碩士學歷的工程師占絕大多數，他們大部分為上海貝爾，TI德州儀器，華為，中科院，中興，Xilinx,Intel英特爾,NI公司，Cadence公司,Synopsys，IBM，Altera，Oracle，synopsys，微軟，飛思卡爾等大型公司高級工程師，項目經理，技術支持專家，他們有著深厚的專業技能和技術素養，豐富的項目實戰經驗，基本上都有十多年實際項目經驗，開發過多個大型項目。

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培訓班新動態

　　　　　　　　　　　集成電路（IC）版圖設計工程師培訓班

課程目標

IC設計培訓課程可以讓學員深入了解復雜芯片的基本模塊建立，把握時序的計算及其調整，掌握DFT的概念和重要性及其實際應用，了解后端的芯片流片過程以及影響芯片性能的各種因數，掌握如何提高整個芯片設計的成功率和高性能，能夠獨立完成各個流程的設計，并大幅度提高個人在IC設計各個環節中的設計能力。

主要內容：
集成電路設計流程及IC版圖設計
總體設計及布局規劃
各種電路的版圖實現及驗證
版圖設計中各種技術考量

實驗課內容：
完成一個SRAM的全部版圖設計

培養對象

專注于IC設計領域的人和希望了解整個IC設計流程的工程師，即將介入IC 設計領域的畢業生，即將轉為從事半導體工作的人員,已經從事IC設計，如概念工程師，設計工程師，布線工程師，測試工程師,應用工程師，IC芯片設計項目經理。

入學要求

學員學習本課程應具備下列基礎知識：
◆電路系統的基本概念。

班級規模及環境--熱線:4008699035 手機:15921673576( 微信同號)

為了保證培訓效果，增加互動環節，我們堅持小班授課，每期報名人數限20人，多余人員安排到下一期進行。

上課時間和地點

上課地點：【上海】：同濟大學(滬西)/新城金郡商務樓(11號線白銀路站) 【深圳分部】：電影大廈(地鐵一號線大劇院站)/深圳大學成教院【北京分部】：北京中山/福鑫大樓【南京分部】：金港大廈(和燕路) 【武漢分部】：佳源大廈（高新二路）【成都分部】：領館區1號（中和大道）【沈陽分部】：沈陽理工大學/六宅臻品【鄭州分部】：鄭州大學/錦華大廈【石家莊分部】：河北科技大學/瑞景大廈【廣州分部】：廣糧大廈【西安分部】：協同大廈
近開課時間(周末班/連續班/晚班）：集成電路版圖設計初級班：2025年12月15日..以質量求發展....合作共贏....實用實戰....實戰培訓....用心服務......即將開課，歡迎垂詢.......

實驗設備

　    ☆資深工程師授課


        ☆注重質量
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        專注高端培訓17年，曙海提供的課程得到本行業的廣泛認可，學員的能力
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新優惠

◆在讀學生憑學生證，可優惠500元。

質量保障

        1、培訓過程中，如有部分內容理解不透或消化不好，可免費在以后培訓班中重聽；
        2、課程完成后,授課老師留給學員手機和Email,保障培訓效果,免費提供半年的技術支持。
        3、培訓合格學員可享受免費推薦就業機會。

　　　　　 集成電路（IC）版圖設計培訓班

課程進度安排

課程大綱

第一階段

課程進度安排
時間	課程大綱
第一階段
學習目標	掌握Linux基本操作，vi編輯器的使用，virtuoso軟件的操作。
	1 Linux的用戶界面及工作站的登陸。 1.1 Linux概述 1.2 Linux系統訪問 1.3 Linux的圖形用戶界面 1.4 Linux的文件和目錄 1.5 文本編輯器Vi 實驗：登陸工作站，訪問相關目錄和文件，編輯文件。
	2 virtuoso軟件的啟動 2.1 virtuoso軟件的配置文件cds.lib 2.2 icfb的啟動：icfb 2.3 版圖建庫的文件display.drf 實驗:編輯 cds.lib文件。啟動icfb,建立一個layout 庫，刪除一個庫。 3 virtuoso軟件的操作 3.1 快捷的默認設置。 3.2 快捷的個人設置，怎么修改快捷鍵。 3.3 Grid的設置----0.005u 3.4 繪制Path、Rectangle 實驗:編輯.cdsinit 文件。使用快捷鍵繪制Path、Rectangle，切除、添加部分圖形。
	4. 4.1 IC設計流程及 4.2IC版圖設計的作用 4.3平面半導體工藝和術語 4.4CMOS基本工藝過程 4.5NMOS/PMOS/NPN/PNP 及其版圖實現 4.6反相器的版圖實現 4.7版圖設計環境及工具的使用 4.8版圖編輯的快捷鍵
第二階段
學習目標	了解IC版圖的基本概念，半導體的工藝流程，學會做版圖的基本器件。
	5 半導體基礎理論、集成電路制造工藝 5.1 PN結 5.2 PN結二極管 5.3 MOS場效應晶體管 5.4 集成電路中的器件結構 5.5 外延生長 5.6 掩膜制版工藝 5.7 光刻 5.8 熱氧化 5.9 摻雜工藝（熱擴散、離子注入） 5.10 刻蝕 5.11 化學氣相淀積 5.12 鍍膜 6 集成電路設計概述 6.1 集成電路設計流程和設計工具 6.2 國內外集成電路技術發展概況 6.3 國內外主要集成電路晶圓代工廠(Foundry)介紹
	6 半導體器件原理及版圖設計 6.1 Design Rule的基本概念及內容。 6.2 MOS管的版圖設計及剖面圖。 6.3 反相器（invter）的結構及版圖設計 6.4 電阻的種類（well\poly\diff\mos）及版圖設計 6.5 電容的種類（mim\mom\mos）及版圖的設計 6.6 二極管及三極管的原理及版圖設計實驗：做一個mos管，做所有的電阻和電容器件，做一個二極管及三極管。做一個invter，且把幾個invter串起來組成一個小電路。
	7.1并聯晶體管的版圖實現 7.2串聯晶體管的版圖實現 7.3棍棒圖 7.4二輸入與非門和或非門的版圖實現 7.5設計規則的介紹 7.6高驅動門及其版圖: 多指
第三階段
學習目標	學會DRC和LVS。

	8.設計一個NAND芯片版圖 9 DRC的概念及檢查DRC的軟件。 9.1 DRC的概念，基于Design Rule的check. 9.2DRC的配置及操作。 9.3 DRC的介紹。 9.4 DRC Results 的讀取及修改ERROR。 10 LVS的概念及檢查LVS的 10.1 LVS的概念，Netlist的手工提取和自動提取。 10.2 Calibre LVS的配置及操作。 10.3 LVS Command file (runset)的介紹 10.4 LVS Report 的讀取及修改ERROR。實驗： 1、INV芯片的LVS驗證及修改 2、Control芯片的LVS驗證及修改
	11.1較大晶體管的串聯版圖設計 11.2復雜邏輯電路版圖設計舉例 11.3如何進行設計規則的檢查（DRC） 11.4版圖與邏輯設計一致性驗證（LVS） 11.5層次化結構 11.6總體設計 11.7實驗課題的布局規劃
第四階段
學習目標	掌握做一個OPAMP的版圖設計及LVS DRC的Check。
	12 IC layout模擬模塊設計 12.1 OPAMP的原理及版圖設計 12.2 交差對稱的概念及版圖設計（很重要） 12.3 Dummy的概念、原理及如何添加dummy 實驗：做交差對稱，注意dummy.
	12.4 屏蔽線（Shielding line）的作用及做法。 12.5 其它對稱的概念及版圖設計 12.6 不同器件特性相對版圖布局的關系 12.7 關鍵線的連接 12.8 電源和地線的連接 12.9 LVS DRC check 實驗：完成OP版圖，及LVS DRC的check。

第五階段
學習目標	掌握大型Chip 的概念及布局，完成一個chip。
	13 Chip 的概念及布局 13.1 PAD的概念和做法 13.2 Under PAD的器件做法及對PAD的要求。 13.3 ESD器件和PAD及內部模塊的連接 13.4 電源和地線間的ESD放電通路，Power clamp的版圖設計。 13.5 當對任意PAD打ESD時的放電通路。 13.6 ESD器件和內部的隔離 13.7 Guardring的概念和做法。
	14.1.電源總線及信號總線 14.2 版圖中非懸空輸入 14.3 ESD電路 14.4 IC 功耗 14.5 CMOS工藝介紹 14.6 模擬電路及其版圖設計
	實驗： 1 做一個PAD。 2 完成一個完整的chip

本課程部分實驗室實景

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